LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光。蓝宝石的硬度，普通磨料难以对其进行加工。在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕。CMP抛光液利用“软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光。随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液的需求也与日俱增。

这两个概念主要出半导体加工过程中，初的半导体基片（衬底片）抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等，但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末，一种新的抛光技术——化学机械抛光技术（CMP Chemical Mechanical Polishing ）取代了旧的方法。

硅材料抛光液、蓝宝石抛光液、砷化镓抛光液、铌酸锂抛光液、锗抛光液、集成电路多次铜布线抛光液、集成电路阻挡层抛光液、研磨抛光液、电解抛光液、不锈钢电化学抛光液、不锈钢抛光液、石材专用纳米抛光液、氧化铝抛光液、铜化学抛光液、铝合金抛光液、镜面抛光液、铜抛光液、玻璃研磨液、蓝宝石研磨液等。

乳化蜡用作皮革光亮剂、消光剂和手感剂等 人们对皮革制品的外观有两大类要求，一是增加皮革光泽， 如打光革、漆革、抛光效应革等；另一种是不要光泽感，使皮革呈现感、自然美。前者需要用到光亮剂，后者需要用到消光剂。选用不同的蜡乳液用于皮革顶层涂饰时，有的可增加皮革光泽感或光亮度，有的可产生消光作用呈现风韵。产生光亮作用的蜡乳液粒径要求很小，组成比较单一，在皮革表层形成一层均相且连续的蜡的薄膜，微观上薄膜很平滑，对光波产生较强烈的反射作用，从而具有光泽感；产生消光作用的蜡乳液粒径较大，在皮革表面形成一种非均相且微观上不平整的表面，对光波产生强烈的散射作用，散射作用是消光剂产生消光作用的根本原因。