PDMAT五(二甲氨基)钽(V) (C10H30N5Ta)

化学式C10H30N5Ta中文名称五（二甲氨基）钽(V)英文名称PDMATCAS No.19824-59-0分子量401.3266充装系数

应用氮化钽 (TaN) 薄膜的挥发性固体 CVD 前体。当在沉积过程中存在 O2、H2O、NO 或 H2O2 时，还会形成氧化钽 (Ta2O5) 薄膜。 Ta2O5 薄膜作为集成电路制造中的栅电介质材料具有广阔的应用前景。产品规格≥99.99%

Pentakis‐dimethylamino Tantalum (PDMAT) is a solid source material for chemical vapor deposion or atomic layer deposion of highly conformal tantalum oxide or tantalum nitride films.